大气射流等离子体技术的发展历史
发表时间： 2023-07-21 10:38:36
作者： 深圳市甲岸科技有限公司
浏览：
大气射流等离子体技术的发展历史
当前，微电子工业中使用的等离子清洗机当中低温等离子体工艺在许多情况下都会在真空条件下来完成，因为在真空条件下低温等离子体的处理效果更好，也能为大面积处理与高均匀性的效果提供保证，因此在真空条件下的投入及研发在整个等离子体工艺线当中占了很大的比例。
真空等离子处理
但在常压大气环境下进行处理的大气射流等离子体技术仍有自己的优势，如处理效率更高，占地面积更小等。于是为了摆脱对真空环境的依赖，在大气压条件下获得均匀放电等离子体的要求被提上了日程，在20世纪80-90年代开始兴起，并在全球范围内形成了热烈的研究潮流，也是在这一期间，大量的研究为大气射流等离子体的发展奠定了良好的基础。
20世纪90年代初，Koinuma等人开发出了一种微束等离子体装置，该装置放弃了大面积均匀性的要求，而在直径2mm的范围内采用CF（1%）/He作为放电气体，在70W的射频功率下，在硅片上取得了5nm/s的刻蚀速率，这种微束等离子体装置可以说是大气压非热力平衡态冷等离子体射流装置的前身。
等离子射流
由于其消耗的平均功率非常小，所产生的等离子体射流对环境以及被处理的材料表面几乎没有什么热效应，因此它被称为“冷等离子体射流”。并且在不同的频率下的等离子体的产生机理是不同的，如射频和高频放电下的区别：从应用的角度来看，高频电源更便宜，相关装置的设计与制造也更简单，并有着更多的应用。从近十年的文献分析来看，这类装置的结构大多采用了在惰性气体（或以惰性气体为主掺入了一些活性气体）气流通道上形成DBD。
而到现在，应用了射流等离子体技术的等离子清洗机已经衍生出了许多的设备产品了，可以说当初的射流等离子体技术是在摸索中前进的，而如今却是在处理产品的多样化和具体化方面而努力前行着。
点击右上角
分享给朋友吧
长按图片保存/分享
QQ客服
