氧等离子体清洗机的工作原理及应用
发表时间： 2023-08-23 11:15:38
作者： 深圳市甲岸科技有限公司
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一、氧等离子体清洗机的工作原理
氧等离子体清洗机的工作原理是利用等离子体中的高能粒子与表面污染物发生物理和化学反应，从而将污染物从表面去除。在氧等离子清洗过程中，氧气被电离成为高能粒子，这些粒子能量较高，可以与表面污染物发生反应，使污染物从表面去除。
二、氧等离子体清洗机的应用
1、氧等离子清洗机可以应用于清洗各种材料表面，如金属、塑料、玻璃等，同时也可以用于清洗半导体材料和电子器件。在半导体封装领域，氧等离子清洗机可以用于清洗芯片表面，去除表面的沾污杂质，包括颗粒、金属离子、有机物及残留的磨料颗粒等，以确保半导体器件的质量和性能。
2、氧等离子清洗机还可以用于光刻胶去除、有机污染物去除等领域。在光刻胶去除方面，氧等离子清洗机可以通过等离子刻蚀作用，将光刻胶表面的物质分解成可挥发性的物质，并随着设备抽真空而排出，从而达到去胶的效果。在有机污染物去除方面，氧等离子清洗机可以利用等离子体中的高能粒子与有机污染物发生化学反应，将有机污染物分解成小分子并排出。
氧等离子清洗机的工作原理是通过等离子体中的高能粒子与表面污染物发生物理和化学反应，从而将污染物从表面去除。其应用范围非常广泛，可以用于各种材料表面的清洗和清洁，是现代化生产过程中不可或缺的一种设备。
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