微波等离子清洗机
甲岸科技等离子系统将微波等离子体的优势传递给全世界的半导体领域。 这个范围从wafer制造的高效率光刻胶去除工艺,wafer表面预处理工艺到 芯片封装领域独特的等离子清洗工艺，AP-Q20 是一台适用于wafer制造领 域的多功能设备，满足客户全方位需求。详情请资询 13509627890
甲岸科技微波等离子清洗机
甲岸科技等微波等离子清洗机适用于wafer制造领域的多功能等离子处理设备，从wafer制造的高效率光刻胶去除工艺,wafer表面预处理工艺到芯片封装领域独特的等离子清洗工艺，满足用户对产品表面处理需求。
产品应用
适用于wafer晶圆光刻胶去除,wafer表面预处理工艺到芯片封装前处理
产品特点
- 能够解决表面清洗难题的同时提供改性活化作用，方便后续黏晶、封胶、点胶等等工艺
- 高均匀度分气装置，可满足高蚀刻速率、高均匀度工艺要求
- 附着力的提高可以让粘接更加牢固，减少分层，杜绝气泡
- 通过激光工艺打穿的小孔，溶剂难以清洗，而等离子体可以轻松进入
具体详情请资询 135-0962-7890（微信同号）
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