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IC制造过程中等离子体去除光刻胶的应用
等离子去胶机工作原理：主要通过氧原子核和光刻胶在等离子体环境中发生反应，氧气电离成氧原子并与光刻胶发生化学反应，生成一氧化碳，二氧化碳和水等，再通过泵被真空抽走，完成光刻胶的去除。
等离子体 
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LCD封装基板表面刻蚀机的应用
等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子表面处理仪等，甲岸等离子刻蚀机可以去除金属、陶瓷、塑料、玻璃等表面的有机污染物，并显著改变这些表面的附着力和焊接强度，电离过程易于控制和安全重复。
等离子体 等离子表面处理
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舒曼电晕机处理设备亮相深圳国际薄膜与胶带展览会
深圳国际薄膜与胶带展览会现场云集标签印刷企业所关注的各种高质量材料和高性能设备，助力行业发展！主要产品有：舒曼电晕机处理设备、卷对卷光栅转移机、抗静电除尘辊、自动2.5D影像测量仪、高速剥离强度试验机、热熔胶涂布机、溶剂型试验涂布机等。
电晕处理设备 舒曼电晕机处理设备
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