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等离子去胶机的分类及工作原理
发表时间： 2024-03-01 11:03:16
作者： 深圳市甲岸科技有限公司
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等离子去胶机的分类及工作原理
等离子去胶机可分为湿法和干法两类。
湿法去胶工艺使用溶剂对光刻胶等进行溶解；干法去胶工艺可视为等离子刻蚀技术的延伸，主要通过等离子体和薄膜材料的化学反应完成。
1、湿法去胶：
湿法去胶中使用的溶剂包括有机溶剂以及无机溶剂。有机溶剂主要有丙酮和芳香族的有机溶剂等；而无机溶剂则主要是硫酸和双氧水等，将光刻胶中的碳元素氧化成为二氧化碳，把光刻胶从硅片的表面去除。由于溶剂易与金属反应，因此不适合用于Al、Cu等制程的去胶。
2、干法去胶：
利用等离子体将光刻胶去除。以使用氧等离子为例，硅片上的光刻胶通过在氧等离子体中发生化学反应，生成的气态的CO，CO2和H2O等可以由真空系统抽走。干法去胶适用于绝大部分的去胶工艺，是当前的主流工艺。
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